對于金屬蝕刻加工來說，化學蝕刻和電化學蝕刻是現(xiàn)在比較常見的蝕刻加工方式，那么化學蝕刻和電化學蝕刻的區(qū)別是什么？
一、化學蝕刻加工
金屬化學蝕刻是之金屬在干燥氣體（如氧、氯、硫化氫等）和非電解質(zhì)溶液（配置的蝕刻液）中進行化學反應的結果?；瘜W反應作用引起腐蝕，在腐蝕過程中不產(chǎn)生電流。金屬的化學腐蝕只在特定的情況下發(fā)生，所以不同的金屬需要配置不容的蝕刻液來進行腐蝕。例如：金屬的氧化M+O→MO。 化學蝕刻加工速度快，相比電化學蝕刻可以加工較深的深度，但是蝕刻液對環(huán)保有較大影響，鑫海森蝕刻加工廠房設有污水處理系統(tǒng)，減少對環(huán)境的影響。
二、電化學蝕刻加工
金屬和介質(zhì)發(fā)生電化學反應而引起的腐蝕，在腐蝕過程中有陽極和陰極區(qū)，電流可以通過金屬在一定的距離中流動，如金屬在各種電介質(zhì)溶液（如海水、酸、堿、鹽溶液、潮濕大氣等）中的腐蝕。在一般情況下，電化學蝕刻主要為微電池腐蝕和濃差電池腐蝕。電化學蝕刻的必要條件是：陽極、陰極、電介質(zhì)、電流回路。除去或改變其中任何一個條件即可阻止或減緩腐蝕的進行。涂層能將金屬周圍的電介質(zhì)隔離開，實際上也有電化學防腐的作用。電化學防腐主要通過陰極保護和陽極保護來實現(xiàn)。電化學蝕刻對環(huán)境污染小，但是蝕刻的深度較淺，電流分布受面積影響，面積較大時，蝕刻精度不能很好的控制，且不能做凸面的蝕刻。
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